盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”)(科创板股票代码:688082),作为一家为半导体前道和先进晶圆级封装应用提供晶圆工艺解决方案的领先供应商,今日推出新型化学机械研磨后(Post-CMP)清洗设备。
作为半导体制造与先进晶圆级封装领域中领先的设备供应商,盛美半导体设备(NASDAQ:ACMR)近日发布了应用于填充3D硅通孔(TSV)的硅通孔电镀设备Ultra ECP 3d。借助盛美半导体电镀设备的平台,该设备可为高深宽比(H A R)铜应用提供高性能、无孔洞的镀铜功能。
盛美半导体设备(NASDAQ:ACMR),作为半导体制造与先进晶圆级封装领域中领先的设备供应商,近日宣布美国专利及商标局批准了美国专利申请号为15 575,793的专利申请,该专利为盛美独有的TEBO(时序能激气穴震荡)兆声波清洗技术。