光刻 - -半导体行业观察

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光刻路线图" />

芯片光刻路线图

半导体行业观察：我们所知道的第一个半导体路线图可能是摩尔观察到的，以他为名字的“摩尔定律”预计，芯片的计算能力随着时间的增长呈指数增长。

半导体
2022.06.29
光刻成本" />

芯片制造的光刻成本

半导体行业观察：据semianalysis报道，他们正在密切跟踪的一个项目是光刻支出如何随着各种节点缩小而演变。

半导体
2022.06.20
光刻，有机会吗？" />

[原创] 无掩膜光刻，有机会吗？

半导体行业观察：当前，受全球缺芯潮持续蔓延的影响，芯片问题广受关注，身为芯片制造业核心设备的光刻机可谓是行业关注的焦点。

半导体
2022.04.30
[原创] 半导体设备一机难求

半导体行业观察：主要的半导体设备制造商的交期都没有缩短的迹象。

半导体
2022.03.13
光刻胶" />

[原创] 一线工程师眼中的国产光刻胶

半导体行业观察：春节在家，与众多Fab厂工程师以及一线光刻工程师交流甚多，大家不约而同地提及到了国产光刻胶的问题，于是将大家的观点进行了汇总，让大家更直观的了解他们眼中的国产光刻胶情况。

半导体
2022.02.17
[原创] 封装市场，常被忽视的一环！

半导体行业观察：半导体工程一直存在三大支柱：光刻、晶体管设计和材料，现在，封装已成为第四大支柱。

半导体
2022.01.30
不止EUV，先进芯片制造还有新选择

半导体行业观察：光刻是芯片制造过程中最重要、最复杂、最昂贵的工艺，其精密度决定了芯片的制程，以及器件性能。

半导体
2021.12.19
半导体
1970.01.01
光刻技术的历史与现状" />

光刻技术的历史与现状

半导体行业观察：集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺—光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。

半导体
2020.11.29
光刻技术，远远不止于光刻机" />

[原创] 先进光刻技术，远远不止于光刻机

半导体行业观察：近两年来，芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。芯片制造离不开光刻机，而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力。

半导体
2020.11.27
光刻技术又迈出了重要一步" />

无掩膜光刻技术又迈出了重要一步

半导体行业观察：在半导体行业观察之前的文章《干掉MASK，他们在路上》里，我们介绍了无掩膜光刻技术的前景。而最近，另一个公司又宣布了在这个领域的进展。

半导体
2020.09.25
[原创] 干掉MASK，他们已经在路上

近日，有报道指出，Multicolumn电子束光刻技术（MEBL）领域的领导者Multibeam Corporation早前确认已开始一项雄心勃勃的项目，无需使用任何光罩(又叫“光掩模”，mask)，就能进行芯片生产。

半导体
2020.09.19
光刻技术项目" />

美国国防部资助了一项新的光刻技术项目

Multibeam Corporation 确认已开始一项雄心勃勃的项目，以应用其创新的Multicolumn电子束光刻技术（MEBL）对45nm及更大节点上的整个晶圆进行构图。

半导体
2020.09.13
光刻胶" />

一文看懂光刻胶

光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。

半导体
2020.09.13
光刻的另一种方法" />

IMEC：光刻的另一种方法

半导体行业观察：光刻技术是使微电子和纳米电子器件在过去半个世纪中不断微缩的基础技术之一。该过程使用光将图案从光掩模转移到基板上，然后进行一系列化学处理，将曝光的图案蚀刻到基板上，或以所需的图案沉积新材料。

半导体
2020.09.03
光刻技术的新思路" />

闪存光刻技术的新思路

半导体行业观察：当NAND闪存的半间距（half-pitch）达到20 nm时，非易失性存储容量达到64 Gb 。到达14 nm 后，NAND闪存的半节距不再减少，现在更是已经进入了3D时代。

半导体
2020.08.11
光刻机全球出货量达57台" />

EUV光刻机全球出货量达57台

半导体行业观察：IMEC是推动半导体技术前进的主要组织之一，日前，他们举办了一场线上论坛，谈及了对芯片现状和未来的看法。在演讲中，ASML总裁则对光刻的发展进行了演讲。从他的PPT中可以看到，浸入式光刻在过去九年中增长了两倍。

半导体
2020.07.31
光刻胶" />

受制于人的光刻胶

半导体行业观察：在我国成熟制程、14nm FinFET、存储厂纷纷建产后，光刻胶作为集成电路光刻工艺的关键材料，未来的市场需

半导体
2020.03.23
光刻的流程详解" />

芯片光刻的流程详解

在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。现代刻划技术可以追溯到190年以前，1

半导体
2017.09.12

申请专栏作者

: 半导体行业观察

: 摩尔芯闻

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