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泛林集团发布应用于EUV光刻的技术突破
泛林集团与阿斯麦 (ASML) 和比利时微电子研究中心 (imec) 共同研发的全新干膜光刻胶技术将有助于提高EUV光刻的分辨率、生产率和良率。
半导体2020.02.28 -
给摩尔定律续命，EUV光刻暂难当大任
半导体行业观察：近年来，在半导体行业，极紫外光刻（Extreme Ultra-Violet，以下简称EUV光刻）成为备受众多企业关注的光刻技术之一。
半导体2019.12.18
EUV光刻暂难当大任" />
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