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EUV图案保持同步" />

Overlay如何与EUV图案保持同步

半导体行业观察：叠加计量（Overlay metrology）工具可提高精度，同时提供可接受的吞吐量，解决日益复杂的设备中的竞争要求。

半导体
2022.08.15
EUV光刻机最新路线图" />

[原创] EUV光刻机最新路线图

半导体行业观察：据semiwiki日前的报道，截至 2022 年第一季度，ASML 已出货 136 个 EUV 系统，约曝光7000 万个晶圆已曝光

半导体
2022.06.27
EUV的最新进展：2025年生产0.55 NA" />

ASML EUV的最新进展：2025年生产0.55 NA

半导体行业观察：EUV 处于有利位置，可以在未来十年继续推动光刻分辨率。

半导体
2022.06.25
EUV的工艺：退钴还铜" />

英特尔首个使用EUV的工艺：退钴还铜

半导体行业观察：在 2019 年初，英特尔终于公开承认他们搞砸了——他们雄心勃勃的 10 纳米工艺失败了。

半导体
2022.06.21
EUV光刻机产能将提升" />

ASML确认，EUV光刻机产能将提升

半导体行业观察：于半导体生产中，光刻机是核心设备，不仅决定了芯片制造的制程水准，亦为耗时最多、成本最高的一步，目前先进的7nm、5nm及接下来的3nm制程皆需要EUV光刻机，即使一台要价不菲，仍是供不应求。

半导体
2022.06.18
EUV技术，也无法开发尖端芯片技术" />

日本供应商：中国难以掌握EUV技术，也无法开发尖端芯片技术

半导体行业观察：JSR 是全球最大的半导体生产关键材料供应商之一，其首席执行官最近表示，尽管中国推动自给自足，但缺乏行业基础设施将使中国“非常难以”开发领先的芯片制造技术。

半导体
2022.05.23
EUV光刻机取得重大进展" />

下一代EUV光刻机取得重大进展

半导体行业观察：据报道，由imec和ASML组成的imec-ASML 联合High NA实验室在开发图案化和蚀刻工艺、筛选新的光刻胶和底层材料、改进计量和光掩模技术方面取得了进展。

半导体
2022.04.29
EUV继续前进，需解决这六大问题！" />

EUV继续前进，需解决这六大问题！

半导体行业观察：传统的摩尔定律 2D 缩放定义了半个多世纪以来芯片行业的技术路线图。

半导体
2022.04.23
EUV光刻机" />

了不起的EUV光刻机

半导体行业观察：装有硅晶圆的运送斗如同倒立的微型过山车，沿着头顶天花板上安装的架空轨道快速行进。

半导体
2022.04.18
EUV光刻机争夺战开打" />

[原创] 新一轮EUV光刻机争夺战开打

半导体行业观察：在全球范围内，作为EUV光刻机的唯一供应商，ASML在业内受到的关注度越来越高，特别是以台积电为代表的先进制程发展得风生水起的当下，ASML的重要性与日俱增。

半导体
2022.01.20
EUV 设备供应" />

ASML 火灾可能会扰乱 EUV 设备供应

半导体行业观察：本周早些时候，ASML 柏林工厂的部分内部发生了火灾，该工厂为公司的光刻扫描仪制造光学元件。虽然火灾并未对设施本身造成太大损害，但它影响了生产极紫外 (EUV) 扫描仪组件的部分生产区域。

半导体
2022.01.08
美巨头曾搞小圈圈排挤台积电？林本坚挖内幕

半导体行业观察：林本坚日前受访时表示，2002年英特尔拉拢摩托罗拉、AMD等公司成立EUV LCC联盟，希望大家共同出资研发EUV设备，并应用于未来的40nm与60nm。

半导体
2022.01.03
EUV光刻机即将爆发" />

[原创] 下一代EUV光刻机即将爆发

半导体行业观察：随着先进制程芯片上量（包括逻辑芯片和存储器），芯片制造端的高技术含量规模也在不断扩大，其中，最具代表性的就是EUV光刻机，市场对其需求在未来几年将大幅增加。

半导体
2021.12.25
EUV光刻胶获得大突破" />

韩国EUV光刻胶获得大突破

半导体行业观察：据etnews介绍，韩国东进半导体与三星电子携手，成功开发出一种制造先进半导体必不可少的材料EUV光刻胶（PR）。

半导体
2021.12.21
EUV，先进芯片制造还有新选择" />

不止EUV，先进芯片制造还有新选择

半导体行业观察：光刻是芯片制造过程中最重要、最复杂、最昂贵的工艺，其精密度决定了芯片的制程，以及器件性能。

半导体
2021.12.19
EUV光刻机，投资者疯狂追捧" />

ASML正在开发一种新版本EUV光刻机，投资者疯狂追捧

半导体行业观察：荷兰公司ASML，欧洲最炙手可热的一支股票，正在开发其极紫外光刻机，这是用来雕刻图案投射到硅块形成世界上最先进的芯片的新版本。

半导体
2021.12.11
[原创] 先进制程的“3岔口”

半导体行业观察：摩尔定律效应越来越弱，这在即将到来的3nm制程上体现得更加凸出。7nm还可以不依赖于EUV光刻机，但这在5nm时代已经不成立，EUV作用无可替代

半导体
2021.12.01
EUV光刻机争夺战，三星急了！" />

EUV光刻机争夺战，三星急了！

半导体行业观察：三星电子近期为争抢极紫外光（EUV）设备，高层频频传出密访ASML。

半导体
2020.12.02
EUV光刻机？" />

台积电又买了13台EUV光刻机？

半导体行业观察：在今年早些时候，台积电表示，公司已在全球范围内部署并运行了大约50％的所有极紫外（EUV）光刻工具，这意味着该公司使用的EUV机器比业内任何其他公司都要多。

半导体
2020.11.16
EUV争夺战背后" />

[原创] EUV争夺战背后

半导体行业观察：三星电子李在镕副会长于10月13日紧急访问了荷兰的半导体设备厂家—-ASML，并与ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin van den Brink先生进行了会谈，

半导体
2020.11.02

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