抢夺EUV光刻机，晶圆厂军备竞赛开打

2019-10-22 14:00:09 来源: 半导体行业观察

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来源：内容综合自「联合晚报」，谢谢。

日前，台积电宣布7纳米强效版及5纳米导入EUV微影技术且成功量产入市后，南韩媒体报导，三星向半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）下订15台EUV设备，另外，英特尔、美光、海力士也规划采用EUV技术，僧多粥少，全球半导体业掀起抢EUV（极紫外光）设备大战。

台积电日前宣布，领先业界导入EUV微影技术之7纳米强效版制程已协助客户产品大量进入市场，且2020年上半年量产5纳米也将导入EUV制程。根据南韩媒体报导，为达成2030年成为全球第一半导体大厂的目标，并超越晶圆代工龙头台积电，抢占未来二到三年的5G商用化所带来的半导体市场需求，三星已向全球微影曝光设备大厂ASML订购15台先进EUV设备。

另外，英特尔EUV计划的负责人Britt Turkot年中表示，EUV技术已经准备好，并且投入大量的技术开发。记忆体大厂美光、海力士也计划导入EUV技术，然而目前全球提供EUV设备仅ASML一家，业界预估ASML一年仅能生产约30台EUV设备，在各大厂相继投入之下，形成设备机台一机难求，排队等设备景象。

由于EUV极短波长13.5纳米之强力光线的技术，能够更完美地解析先进制程的设计，减少芯片生产步骤及光罩层数，在5G即将进入商转，高速高频特性，对芯片微缩、低功耗要求高，成为延续摩尔定律重要技术。

不过，要驾驭此复杂且昂贵系统来制造大批晶片却是一件难事，三星虽最早宣布7纳米制程导入EUV，但先前即传出生产芯片良率及产量不足，台积电表示，为何7纳米一开始未导入EUV，正因新技术导入制程需要经历一段学习曲线，台积电在7纳米强效版成功学习经验，未来可顺利导入5纳米制程。

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