2019年全球光刻机市场分析
2020-02-17
14:00:21
来源: 半导体行业观察
根据芯思想研究院（ChipInsights）的数据表明，2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台，较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台；半导体封装、面板、LED用光刻机出货约190台。
2019年ASML、Nikon、Canon三巨头半导体用光刻机出货359台，较2018年的374台减少15台，跌幅为4%。
从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看，全年共出货154台。其中ASML出货130台，占有84%的市场，较2018年下降6个百分点。
EUV方面还是ASML独占鳌头，市占率100%；ArFi方面ASML市占率高达88%；
ArF方面ASML占有63%的市场份额；KrF方面ASML也是占据63%的市场份额；在i
线
方面ASML也拿下了该拿的份额。
从总营收来看，2019年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收954亿元人民币，较2018年小幅增长。从营收占比来看，ASML占据74%的份额。虽然2019年光刻机出货数量有所下滑，但高端机台EUV、ArFi、ArF的出货量增加，也使得总体营收微幅增长。
2019年ASML光刻机营收达704亿元人民币，较2018年成长9%，增幅明显收窄（2018年较2017年成长36%）。
2019年ASML共出货229台光刻机，较2018年224年增加5台，增长2.23%。其中EUV光刻机出货26台，较2018年增加8台；ArFi光刻机出货82台，较2018年减少4台；ArF光刻机出货22台，较2018年增加6台；KrF光刻机出货65台，较2018年减少13台；i-line光刻机出货34台，较2018年增加8台。
2019年ASML的EUV光刻机营收达217亿元人民币，较2018年增加70亿元人民币。2019年单台EUV平均售价超过8亿元人民币，较2018年单台平均售价增长3%。
值得注意的是，2019年第三季度，ASML开始出货NXE:3400C，这是最新型的EUV光刻机，吞吐量达175wph（300毫米晶圆）。NXE:3400C目前累计出货9台，估算单价接近10亿元人民币。
2019年中国FAB建设高潮，多个FAB搬入设备，其中搬入ASML光刻机的有中芯南方基地、华虹无锡FAB7、粤芯半导体等。
2019年，Nikon光刻机业务营收约156亿元人民币，较2018年下滑5.4%。
2019年，Nikon半导体用光刻机出货46台，较2018年增加10台。其中ArFi光刻机出货11台，较2018年度增加6台；ArF光刻机出货13台，较2017年度增加4台；KrF光刻机出货4台，较2017年度减少1台；i-line光刻机出货18台，较2017年度增加1台。
2019年度，Nikon半导体用光刻机出货46台中，其中全新机台出货28台，翻新机台出货18台。
2019年，Canon光刻机营收约为94亿元人民币，较2018年下降21.3%。
2019年，Canon半导体用光刻机出货达84台，较2018年出货量114台，减少30台，下滑26.3%；全部i-line、KrF两个低端机台出货。
2019年12月，Canon宣布推出FPA-3030iWa型光刻机，预计2020年2月下旬发售。该机型采用的投影透镜具有52毫米x52毫米的广角，NA可从0.16到0.24范围内可调。新设备可以在2英寸到8英寸之间自由选择晶圆尺寸的处理系统，方便支持各种化合物半导体晶圆，可运用在预计未来需求增长的汽车功率器件、5G相关的通信器件、IoT相关器件（如MEMS和传感器等）的制造工艺中。
2019年，Nikon面板（FPD）用光刻机出货40台，较2018年减少33台。2019年，Nikon面板用光刻机虽然出货减少33台，但我们也看到其10.5代线用光刻机出货量增长不错，从2018年出货14台增长到2019年的22台，爆增60%。
2019年，Canon面板（FPD）用光刻机出货50台，较2018年出货量69台，减少19台，下滑27.5%。
上海微电子装备（集团）股份有限公司光刻机主要用于广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造领域，2019年出货预估在50+台，和2018年基本持平，主要集中在先进封装、LED方面，在FPD领域也有出货。
德国SUSS光刻机主要用于半导体集成电路先进封装、MEMS、LED，2019年光刻机收入约7亿元人民币，和2018年几乎持平。
2017年Veeco收购Ultratech，增加了光刻市场的收入，主要是来自先进封装和LED领域，销售客户包括先进封装、晶圆制造、LED生产商。2019年公司来自先进封装和LED用光刻机的营收约为3亿元人民币，预估销售台数在20台以内。
公司的光刻设备主要应用于先进封装、面板等行业，当然公司也出售对准仪等。
从2018年以来，公司一直在加速EUV技术导入量产；二是实验以0.55 NA取代目前的0.33 NA，具有更高NA的EUV微影系统能将EUV光源投射到较大角度的晶圆，从而提高分辨率，并且实现更小的特征尺寸。
2019年第三季度，ASML已经出货EUV新机型NXE:3400C，每小时吞吐量为175片，完全满足7纳米和5纳米工艺。
预估2021年将推出0.55 NA的新机型EXE:5000样机，可用于2纳米生产，按照之前的情况推测，真正量产机型出货可能要等到2024年。当然0.55 NA镜头的研发进度也会影响新机型的出货时间。
2019年ASML全年出货26台EUV光刻机，还是因为产能有限所致。
DRAM公司将在2020年底搬入EUV光刻机，表示着EUV将进入存储器产线，这将对
ASM
L
的未来产量提出更多挑战。
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