台积电史上最高资本支出，ASML成最大赢家
2019-10-31
14:00:20
来源: 半导体行业观察
台积电在10月17日召开的第3季法说会上，宣布上调资本支出40亿元，由原先的100亿~110亿美元，大幅上调至140~150亿美元，创下台积电单年资本支出的新高纪录。
而早在10月7日，台积电抢在法说会前所发布的1则新闻稿，已悄悄凸显出当前半导体大厂EUV（极紫外光刻）军备竞赛的热度。
新闻稿中宣布，导入EUV微影技术的7纳米强效版（N7+）制程，已于第2季开始量产。
台积电宣称，7纳米制程量产已超过1年的情况下，N7+良率与7纳米已相当接近。
台积电此举被外界解读为，是要向抢先量产EUV但良率似乎不如预期的三星「示威」。
在法说会上宣布新增的40亿美元资本支出，就包含采购多台单价逾1亿美元的EUV微影设备。
台积电企业讯息处资深处长孙又文向《财讯》证实，「除了7纳米之外，所有先进节点如6纳米、5纳米等，都将采用EUV作为制程的一部分。
但浸润式微影仍然是未来所有先进制程节点的重要工具。
」尽管台积电在7纳米以下的更先进纳米制程中，EUV与浸润式微影技术将并重，但未来势必对于EUV机台采购需求看涨。
波长新里程突破摩尔定律
巧合的是，就在10月15日，全球半导体光刻设备龙头ASML（ASML）在法说会前一天，其于欧洲与美国那斯达克（NASDAQ）挂牌的股票，股价分别以243.2欧元与267.54美元，双双创下历史新高纪录，今年以来的涨幅也分别高达逾76%和71%。
为何这个来自荷兰费尔德霍芬市的半导体设备大厂股价会涨翻天？
答案就是：
由ASML独家提供的EUV微影技术，这正是台积电为持续维持技术领先，大力加码投资的新设备。
过去20年，全球半导体厂商都仰赖当时最先进的浸润式微影机台，采用193纳米波长的光刻出电路图案；
然而，随着芯片微缩愈来愈精细，浸润式微影技术已无法应付，导致摩尔定律恐难以再延续。
因此台积电、英特尔、三星等半导体大厂都引颈期盼着，ASML展开研发的波长仅有13.5纳米的EUV微影机台，可以突破浸润式微影机台在半导体制程的技术瓶颈。
然而，EUV微影机台的研发难度更高，研发费用也持续垫高，让ASML愈来愈吃不消，原本应该在2005年就该量产，进度却一再延宕。
为加快EUV研发进度，2012年，英特尔、台积电、三星展开一项创举—向他们的设备供应商ASML投入了大量资金。
当时，3大巨头总共投资高达38.5亿欧元，取得约23%股份，其中英特尔拥有15%、三星取得3%、台积电则有约5%的股份。
英特尔还额外投资ASML的研发计划33亿美元；
三星也为研发计画挹注2.76亿欧元。
经过漫长研发，如今ASML是全球唯一可量产EUV微影设备的大厂，无论三星、台积电、英特尔、中芯国际等半导体大厂，全都要靠ASML生产的EUV微影设备，才能在先进纳米制程中导入EUV微影技术。
随着三星、台积电的EUV制程相继成功投产，英特尔也在加速EUV制程进展，未来还有更多中国半导体大厂也将在EUV制程摩拳擦掌，一场世界级的EUV军备竞赛已如火如荼开打，角色如同「军火商」的ASML自然是最大赢家。
果然，就在10月16日，ASML的第3季法说会上，总裁暨执行长温彼得（Peter Wennink）揭露令外界眼睛为之一亮的消息，「我们在第3季完成7台EUV出货，其中3台是NXE:3400C（产能更大的最新型号）。
同时接到来自逻辑与记忆体客户的23台EUV新订单，不仅让创下我们单季最高订单金额纪录，达51.11亿欧元（折合新台币达1763.8亿元），也证实逻辑和记忆体芯片客户均积极将EUV微影技术导入芯片量产。
总结来说，我们对于2019年的整体营收目标维持不变，今年对于ASML来说仍是成长的1年。
」
订单纷至第4季毛利惊人
展望第4季，温彼得仍深具信心地表示，预计第4季销售净额将达约39亿欧元（折合新台币达约1346亿元），这将创下历史新高。
此外，第4季毛利率将高达48%~49%之间，大大高于第3季度的43.7%。
利润预期将会提高的主因来自于EUV微影最新型号机台NXE:3400C，具备更高的ASP（平均销售价格）。
孙又文指出，「鉴于明年5G部署的前景更加乐观，在过去的数个月中，对7纳米与5纳米的需求已显著增加，」因此，台积电决定将2019年全年的资本支出增加40亿美元，以满足不断增长的需求。
「在新增的40亿美元资本支出中，约15亿美元用于7纳米产能，25亿美元用于5纳米产能。
」
而且，孙又文更进一步透露，台积电目前计画明年的资本支出与修订后的2019年资本支出有些相似。
换言之，明年台积电的资本支出也与今年不分轩轾，当中也包含采购更多EUV微影设备的费用。
10月16日，摩根大通出具一份报告，给予ASML的评价是优于大盘，并订定年底前目标价为240欧元，此一目标价格是由于预估2025年每股盈余将达18欧元，本益比13倍，「我们提高了倍数，以反映出EUV在市场渗透率上有更好的能见度。
」若观察近期ASML的股价表现，可发现此一论点也颇获市场认同。
若以平均每两年推出1个先进纳米制程估算，以目前可预知的7纳米、6纳米、5纳米、3纳米、2纳米制程，凭借着EUV微影机台，未来ASML至少有10年的好光景。
特别是，随着半导体大厂军备竞赛打得更加激烈，ASML身为全球独家EUV设备供应商，也将更展现出赢者全拿的气势。
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