中兴通讯面对美国的禁令，相当头痛之际，进行中的产品开发却没有停下脚步。最近中兴申请了新设计专利，竟然是比「刘海」更进一步的「双刘海」设计。
中国国家知识产权局近日公布新的中兴通讯专利，如图所示，手机屏幕上方是流行的「刘海」设计，下方则保留了硬件按键，屏幕则在两旁延伸到底部，形成 W 字。这已是中兴对相关设计提交的第二项专利，去年 9 月注册，以投入资源看来，会推出实际应用这个设计的产品的机会相当高，但现在面对美国禁令带来的不稳定性，会否如期推出产品仍未知。
「刘海」设计去年开始流行，以 iPhone X 的屏幕设计最受争议，不少人都认为不好看，应用界面设计时也增加不少麻烦。不过后来多家 Android 厂商却跟随苹果步伐推出相同设计的产品。如果中兴真的推出这种产品，能不能得到消费者青睐呢？
- 设计大胆 中兴注册双刘海设计专利 屏占比惊人
（本文由 Unwire HK 授权转载；首图来源： Flickr/ITU Pictures CC BY 2.0）
