周末分享：晶圆的生产工艺流程

版权声明：本文转载自泰科天润，如您觉得不合适，请与我们联系，谢谢！

工程师们平时都见过芯片，也有很多工程师见过晶圆，但是你们知道晶圆的具体生产流程么？请跟随小编的脚步去细看吧。

从大的方面来讲，晶圆生产包括晶棒制造和芯片制造两大步骤，它又可细分为以下几道主要工序（其中晶棒制造只包括下面的第一道工序，其余的全部属芯片制造，所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序）：

晶棒成长 — 晶棒裁切与检测 –外径研磨 –切片 –圆边 –表层研磨 –蚀刻 –去疵 –抛光 –清洗 –检验 –包装

1、 晶棒成长工序：它又可细分为：

1）、融化（ Melt Down）：将块状的高纯度复晶硅置于石英坩锅内，加热到其熔点 1420° C以上，使其完全融化。

2）、颈部成长（ Neck Growth）：待硅融浆的温度稳定之后，将〈 1.0.0〉方向的晶种慢慢插入其中，接着将晶种慢慢往上提升，使其直径缩小到一定尺寸（一般约 6mm左右），维持此直径并拉长 100-200mm，以消除晶种内的晶粒排列取向差异。

3）、晶冠成长（ Crown Growth）：颈部成长完成后，慢慢降低提升速度和温度，使颈部直径逐渐加大到所需尺寸（如 5、 6、 8、 12吋等）。

4）、晶体成长（ Body Growth）：不断调整提升速度和融炼温度，维持固定的晶棒直径，只到晶棒长度达到预定值。

5）、尾部成长（ Tail Growth）：当晶棒长度达到预定值后再逐渐加快提升速度并提高融炼温度，使晶棒直径逐渐变小，以避免因热应力造成排差和滑移等现象产生，最终使晶棒与液面完全分离。到此即得到一根完整的晶棒。

2 、晶棒裁切与检测（ Cutting & Inspection ）：

将长成的晶棒去掉直径偏小的头、尾部分，并对尺寸进行检测，以决定下步加工的工艺参数。

3 、外径研磨（ Surface Grinding & Shaping ）：

由于在晶棒成长过程中，其外径尺寸和圆度均有一定偏差，其外园柱面也凹凸不平，所以必须对外径进行修整、研磨，使其尺寸、形状误差均小于允许偏差。

4 、切片（Wire Saw Slicing）：

由于硅的硬度非常大，所以在本工序里，采用环状、其内径边缘镶嵌有钻石颗粒的薄片锯片将晶棒切割成一片片薄片。

5 、圆边（Edge Profiling）：

由于刚切下来的芯片外边缘很锋利，硅单晶又是脆性材料，为避免边角崩裂影响芯片强度、破坏芯片表面光洁和对后工序带来污染颗粒，必须用专用的电脑控制设备自动修整芯片边缘形状和外径尺寸。

6 、研磨（Lapping）：

研磨的目的在于去掉切割时在芯片表面产生的锯痕和破损，使芯片表面达到所要求的光洁度。

7 、蚀刻（ Etching ）：

以化学蚀刻的方法，去掉经上几道工序加工后在芯片表面因加工应力而产生的一层损伤层。

8 、去疵（ Gettering ）：

用喷砂法将芯片上的瑕疵与缺陷感到下半层，以利于后序加工。

9 、抛光（ Polishing ）：

对芯片的边缘和表面进行抛光处理，一来进一步去掉附着在芯片上的微粒，二来获得极佳的表面平整度，以利于后面所要讲到的晶圆处理工序加工。

10 、清洗（ Cleaning ）：

将加工完成的芯片进行最后的彻底清洗、风干。

11 、检验（ Inspection ）：

进行最终全面的检验以保证产品最终达到规定的尺寸、形状、表面光洁度、平整度等技术指标。

12 、包装（ Packing ）：

将成品用柔性材料，分隔、包裹、装箱，准备发往以下的芯片制造车间或出厂发往订货客户。

【关于转载】：转载仅限全文转载并完整保留文章标题及内容，不得删改、添加内容绕开原创保护，且文章开头必须注明：转自“半导体行业观察icbank”微信公众号。谢谢合作！

【关于投稿】：欢迎半导体精英投稿，一经录用将署名刊登，红包重谢！来稿邮件请在标题标明“投稿”，并在稿件中注明姓名、电话、单位和职务。欢迎添加我的个人微信号MooreRen001或发邮件到 jyzhang@moore.ren

点击阅读原文加入摩尔精英