泛林集团、Entegris 和 Gelest 携手推进 EUV 干膜光刻胶技术生态系统

2022-07-19 11:27:08 来源: 互联网

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这一使用突破性技术的合作将为全球芯片制造商提供强大的化学品供应链，并支持下一代 EUV 应用的研发

北京时间2022年7月15日——泛林集团 (NASDAQ: LRCX)、Entegris, Inc. (NASDAQ: ENTG) 和三菱化学集团旗下公司 Gelest, Inc, 于近日宣布了一项战略合作，将为全球半导体制造商提供可靠的前体化学品，用于下一代半导体生产所需的、泛林突破性的极紫外 (EUV)干膜光刻胶创新技术。三方将合作对未来几代逻辑和 DRAM 器件生产所使用的 EUV 干膜光刻胶技术进行研发，这将有助于从机器学习和人工智能到移动设备所有这些技术的实现。

强大的工艺化学品供应链对于 EUV 干膜光刻胶技术运用到量产至关重要。这一新的长期合作将进一步扩大干膜光刻胶技术不断发展的生态系统，由半导体材料领先者提供双源供应，保障全球所有市场的持续供应。

此外，泛林、Entegris 和 Gelest 还将携手合作，加快开发未来用于高数值孔径（高 NA）EUV 图形化的高性价比 EUV 干膜光刻胶解决方案。高 NA EUV 被广泛认为是未来几十年半导体器件持续微缩和发展所需要的图形化技术。干膜光刻胶能实现高抗刻蚀性及沉积和显影所需的可调厚度比例，以支持高 NA EUV 降低焦深的要求。

泛林集团执行副总裁兼首席技术官 Rick Gottscho 表示：“干膜光刻胶技术结合 EUV 为将来 DRAM 和逻辑的发展扫清了最大障碍。此次合作将泛林在干膜光刻胶技术领域的专业知识、尖端解决方案与材料科学能力和来自两个前体化学品行业领导者带来的值得信赖的供应渠道结合在一起。这一干膜光刻胶生态系统的重要扩展为该技术的创新和量产铺平了道路。”

干膜光刻胶最初由泛林与 ASML 和 IMEC合作开发，提升了 EUV 光刻的分辨率、生产率和良率，从而解决了与下一代 DRAM 和逻辑技术相关的关键挑战。该技术提供出色的剂量-尺寸比和剂量-缺陷率性能，从而提高了 EUV 扫描仪的生产率并降低持有成本。此外，与传统抗蚀剂工艺相比，泛林的干膜光刻胶工艺消耗的能源更少，原材料消耗量比之前要少五到十倍，从而提供了关键的可持续发展优势。

Entegris首席执行官 Bertrand Loy 表示：“泛林的干膜光刻胶技术反映了材料层面的关键创新，并且提供多项优势，包括分辨率更佳、成本效益更高以及具吸引力的可持续发展效益。我们很自豪能够参与这项创新合作，以加速干膜光刻胶技术的采用，并在客户运用这项重要技术创造下一代半导体之际，成为他们值得信赖的工艺材料供应商。”

三菱化学集团旗下 Gelest 总裁 Jonathan Goff 表示：“我们与泛林和 Entegris 合作开发 EUV 光刻所使用的干膜光刻胶，这表明我们致力于支持芯片制造商在材料科学领域的创新。近年来，我们已经看到 EUV 展现出了非凡的价值，我们很高兴成为不断发展的生态系统的一部分，以扩大其潜力。”

关于泛林集团

泛林集团 (NASDAQ: LRCX) 是全球半导体创新晶圆制造设备及服务的主要供应商。泛林集团的设备和服务助力客户构建体积更小、性能更出色的器件。事实上，当今几乎每一块先进芯片的制造都使用了泛林集团的技术。我们出色的系统工程、技术领导力、以及基于强大的价值观的企业文化，都与对客户的坚定承诺紧密结合。泛林集团是一家 FORTUNE 500®（美国《财富》500 强）公司，总部位于美国加利福尼亚州弗里蒙特市，业务遍及世界各地。欲了解更多详情，请访问www.lamresearch.com。

关于Entegris

Entegris 是全球半导体市场电子材料领域的领导者。Entegris 拥有约 8,800 名员工，业务遍布全球，除了为生命科学和其他先进的制造环境提供解决方案外，还为半导体客户提供业界最全面、创新的端到端产品组合。Entegris 的解决方案可帮助客户提升生产力、产品性能以及良率，从而实现改变世界的科技。它在美国、加拿大、中国、法国、德国、以色列、日本、马来西亚、新加坡、韩国和中国台湾设有制造基地、客户服务和/或研究机构。欲了解更多 Entegris 的信息，请访问www.entegris.com。

关于Gelest

Gelest 是专业硅酮、有机硅烷、金属有机化合物和丙烯酸酯单体的创新者、制造商和全球供应商，总部位于美国，服务于医疗设备、生命科学、涂料和粘合剂、微电子和个人护理等先进技术终端市场。作为世界上最大和最成功的化学公司之一三菱化学集团旗下一员，Gelest 可以利用集团的专业知识、研发支持和资源，开发尖端的化学技术、产品和服务来应对社会最复杂的材料科学挑战，从而助力客户取得成功。

责任编辑：sophie

申请专栏作者

: 半导体行业观察

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