日本三菱将在中国建设半导体清洗液工厂
2022-02-07
14:00:32
来源: 半导体行业观察
来源：内容来自
日经中文
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据日经中文介绍，三菱瓦斯化学将在中国新建半导体清洗液工厂。该产品用于在半导体的生产过程去除微小杂质。三菱瓦斯化学在全球市场占有约5成份额，位居第一。近年来，随着新一代通信网络不断实用化和物联网（IoT）的普及，全球对半导体的需求十分旺盛。三菱瓦斯化学将强化相关产品的供应体制，抓住不断扩大的需求。
中国的新工厂计划最早于2022年上半年投产，投资额未予公开。新工厂生产的是「超纯过氧化氢」。过氧化氢一般用于消毒液等，提高其纯度可生产超纯过氧化氢。在半导体的生产过程中，需要在不破坏微细半导体结构的情况下清除细小杂质，作为清洗液离不开超纯过氧化氢。该产品也用于研磨和蚀刻等工序。
预计中国的年产能将达到9万吨，以抓住半导体产业不断增长的中国国内需求。三菱瓦斯化学已开始在日本、韩国、中国台湾、美国、新加坡等国家和地区生产超纯过氧化氢。加上中国大陆的产能，全球总体年产能将增加16％，达到64.4万吨。
据介绍，三菱瓦斯化学在全球超纯过氧化氢市场拥有约5成份额。还预定最早于2023年在台湾启动新的原料工厂，推进在当地建立一条龙生产体制的计划等，目前正在大力完善供应链。
根据资料显示，湿电子化学品种类繁多，按照应用区分，分为通用型和功能型两种，其中在通用型湿电子化学品行业中，电子级双氧水是通用型湿电子化学品消费占比最大的品种，也是行业关注度极高的产品。所以，我们尽量通过本文来阐述中国电子级双氧水行业的现状及发展趋势。
电子级双氧水，又称为“电子级过氧化氢”，是大规模集成电路生产工艺中所必须的电子化学原料。高纯电子级双氧水为蓝色粘稠液体，其水溶液称为双氧水。电子级双氧水主要用于半导体硅片清洗剂，蚀刻剂和光刻胶去除剂，还可用于高阶绝缘层制取，电镀液无机杂质去除，电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理，以及太阳能矽晶片的蚀刻和清洗。
电子级双氧水是大规模积体电路生产中所必须可少的原料，由于电子元器件所用的试剂中的杂质，会对电子元器件效能、导电性及寿命等产生直接的影响，所以需要用到纯度较高的双氧水，俗称“电子级双氧水”。电子级双氧水目前被广泛应用在半导体、超大集成电路装配和加工过程中的清洗和腐蚀等方面，是电子工业中一种十分重要的工艺化学品。
半导体硅材料主要应用于半导体元器件和积体电路，目前95%以上的半导体器件和99%以上的积体电路（LSI）都是用高纯优质的矽抛光片和外延片制作的，是目前可获得纯度最高的材料之一。这种材料做成的硅片，被称为半导体硅片，用于电子计算机、电信通讯、电视、微波传送、极光转换、医疗装置等，其中太空梭是半导体矽材料应用最为广泛和最高阶的机器之一。因为半导体矽材料纯度较高，而加工过程中却因各种原因留下污染物，这些污染物如果不及时清理，就容易影响效能、精准度，甚至报废。所以，半导体矽材料的清洗显得尤为重要。如果用强酸和强碱予以清洗，容易产生副产品，所以，多选择用电子级双氧水予以清洗。
根据调查，电子级双氧水是湿电子化学品领域中重要的代表产品，也随着全球对湿电子化学品领域的消费增长，供应和需求呈现了增长的趋势。根据统计，2019年全球电子级双氧水的市场规模达到25亿美元左右，在过去几年中呈现了高速增长态势。
根据相关资料统计，2019年全球电子级双氧水G1消费体量超过33万吨规模，较2018年同比增长13.5%，2019年全球电子级双氧水G1的供需基本保持平衡的状态。根据对最新的资料显示，随着电子行业的蓬勃发展，全球电子级双氧水G1的需求将呈现高速增长的态势，预计2020年全球电子级双氧水G1市场规模将达到37.89万吨左右。
另外，据了解，电子级双氧水G2-G3级别，主要应用在平板显示和LED等领域，随着近几年LED等领域的高速扩张，特别是以中国为主要代表的LED产能和消费高速增长，驱动了G2-G3级别电子级双氧水的消费增长。根据统计显示，2019年全球G2-G3级别电子级双氧水的消费规模在15万吨左右，较2018年增长了13.5%，属于高速增长的产品。
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