上海新阳：公司KrF光刻胶已有小批量订单，暂无EUV光刻胶计划
2021-09-23
14:00:41
来源: 半导体行业观察
来源：内容来自半导体行业观察综合，谢谢。
近日，有投资者在投资者互动平台向上海新阳提问，公司由于研发euv光刻胶的打算？krf光刻胶何时批量生产？
上海新阳方面回应道：公司KrF光刻胶已有小批量订单，暂无EUV光刻胶研发计划。
早在今年六月底，上海新阳就发表了一个公告。公告指出，上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“公司”）自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。
按照他们的说法，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光 刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为公司在光刻技术领域目标的
全面完成奠定了坚实基础。
新阳表示，光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm
甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。
随着国内晶圆厂建设的不断增多，以 及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长， 公司光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极 的作用，有利于公司业务的长期发展。
据智研咨询统计，2019年全球光刻胶市场规模预计近90亿美元，自2010年至今CAGR约5.4%。预计该市场未来3年仍将以年均5%的速度增长，至2022年全球光刻胶市场规模将超过100亿美元。
根据下图，我们可以了解到低端的g/i-line的占总的半导体光刻胶市场份额31%，高端的KrF、ArF-i光刻胶的市场份额最大，达到45%，
基本是被日本的企业垄断，所以让日本在半导体领域有极大的控制能力。
以 ArF 光刻胶产品为代表的先进光刻胶以及工艺的主要技术和专利都掌握在国外的企业与研究部门，如日本的信越化学(Shin-Etsu Chemical)、合 成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学(Sumitomochem)、富士胶片 (Fujifilm)和美国陶氏(Dow Chemical Company)，其中尤其是日本企业，占有率极高。在KrF光刻胶方面，日本也是占了主导地位，在这领域有全球5%市场占有率的韩国企业和11%的美国企业。
南大光电表示，本项目已作为我国“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”的核心 部分被列入我国国家科技重大专项，受到国家科技部的高度支持。作为对 提升国家综合国力有重大推动作用的战略性产业，ArF(干式和浸没式)光 刻胶是我国集成电路产业的关键原材料，与国家经济及社会发展的需求紧 密结合。本项目不仅能够极大提高我国本土企业的自主创新能力，更重要 的是通过重大关键技术的突破，将带动和提升我国整个电子工业体系的技 术水平和国际竞争力。项目符合国家的产业政策，按国家基本建设程序进行实施，项目的建设是可行的。
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