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Toppan Photomasks 核准在中国投入全新 65 纳米至 14 纳米的先进技术及产能计划

2016-10-18 15:19:00 来源: 互联网

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半导体行业观察全球业界首选光罩合作伙伴 Toppan Photomasks, Inc.（TPI）10 日宣布核准对近期扩建的中国上海厂的下一阶段投资计划；该厂由 TPI 独资子公司 Toppan Photomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）营运。TPI 将对此工厂再投资 8,000 万美元以展现其对中国快速成长的半导体产业及客户的长期承诺。TPI 先前已投资 2,000 万美元扩建上海二厂（TPCS Shanghai II）；该厂现已量产并且为中国唯一提供全方位技术及产品的商业光罩厂。

TPI CEO Mike Hadsell 表示：“相较于其他供应商，上海厂除了提供中国客户缩短两天周期的优势外，并有利于加速客户攻占市场的时效。今天的宣布除了以上优势，并扩大光罩生产能力至 28 纳米。上海厂的先进技术也将更进一步延伸至 14 纳米，以符合中国半导体市场快速演进的需求。此外，上海厂区也有足够的扩建空间以支持客户在未来 10 年甚至更长远的产能需求。”

甫扩展的上海二厂坐落于目前公司营运地（上海漕河泾开发区），除了拥有先进的一级无尘室及设备外，并有利于下一阶段的扩展计划。此阶段的生产能力及技术将聚焦于 65 至 14 纳米的逻辑与先进内存（DRAM 及 NAND）。待今日宣布的计划完成后，仍将有 40% 的无尘室空间以做为日后扩展所需。

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责任编辑：mooreelite

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