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IWAPS 2019丨第三届国际先进光刻技术研讨会报名开启

2019-08-29 17:57:10 来源: 互联网

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【IWAPS 2019】报名开启

第三届国际先进光刻技术研讨会

10月17~18日·南京·金陵江滨酒

为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

作为国内首个高端光刻技术研讨会，IWAPS演讲嘉宾均为特邀自光刻技术领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。

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1、9月17日前报名，可享受报名优惠价

2、在校学生可享受学生优惠价

3、报名可加入半导体行业通讯群

4、分享海报可领取嘉宾授权资料