半导体无机元素分析论坛现场/各路高手演讲要点（附PPT下载）
2020-03-03
19:43:38
来源: Sophie
年前举办的半导体无机元素分析论坛，俨然是半导体制程产品和原材料质控和杂质分析各高手展示“十八般武艺”的秀场。
集成电路制造及其上游产品供应链中，杂质含量直接影响半导体产品的“良率”。据统计，约50%次品都和杂质有直接关系。来自化学试剂，高纯气体，硅材料等原材料的无机杂质控制，更是重中之重，甚至工作场所中气体中微量杂质的控制，也不能忽视。而往往集成电路生产厂商期望和制定的化学品的质控标准，其上游供货商也趋之若鹜。
这次以“无机杂质分析”为主题的论坛，分享观点的高手包括高纯化学品供应商QC经理，分析测试仪器供应商，半导体无机分析专家等。“良率”高手们分享了哪些观点，我们不妨学习一下。
福利大放送:
本文末，我们准备了 本次论坛上三篇精彩演讲资料 的下载链接，欢迎大家注册后下载！
安捷伦科技 原子光谱R&D 总监 Toshifumi Matsuzaki
Toshifumi Matsuzaki 表示，半导体制程的客户越来越严苛的要求，大大推动安捷伦一代代的产品的变革。
在《安捷伦ICP-MS半导体元素分析中的创新之路》的演讲中，Toshifumi Matsuzaki 回顾了半导体客户对于仪器稳定性和基体耐受性的核心需求，并表示：从惠普时期开始，安捷伦在ICP-MS产品及半导体无机元素分析领域实现了一次次技术提升，从冷等离子体技术到世界上第一台串接 ICP-MS等等，并始终处于这个领域创新的最前沿。
来自台湾巴斯夫无机事业部品质管理经理的許卿恆（Jones Hsu）先生，做了名为《亚太地区半导体全新分析技术》的报告。
BASF Taiwan无机事业部 品质管理经理 許卿恆 （Jones Hsu）
负责BASF在中国，台湾地区、韩国、新加坡，马来西亚，德国等国家或地区全球实验室的技术开发的Jones Hsu认为，随着半导体制程线宽逐渐变小，对元素杂质检测能力也日益严格。无机杂质控制要求即将进入了PPQ（Part per quadrillion，10 -15 ）时代（如：铁元素杂质小于500 PPQ，即表示1克半导体材料中，铁元素杂质含量小于500х 10 -15 克）。
为了满足半导体制程客户苛刻要求，巴斯夫作为世界上最大的化学品供应商之一，早已在其质控相关部门最先进杂质检测能力方面做了布局。Jones Hsu 所在的BASF Taiwan 是最早一批满足其先进制程客户要求的PPQ检测能力的化学品供应商实验室。
安捷伦日本的Katsuo Mizobuchi表示，半导体制程中，为了严格控制湿化学品中无机杂质，需要使用ICP-MS等分析仪器，对其中痕量及超痕量的元素进行检测，包括硫酸，双氧水等无机试剂，以及显影剂,光刻胶等有机试剂。半导体制程中的湿化学品，化学组成非常复杂，通常让痕量元素分析面临诸多困难。
Katsuo Mizobuchi专注半导体无机分析领域工作超过了30年。他讲述了半导体领域又一个无机杂质质控难题攻克的故事。将ICP-MS/MS两级质谱的强大质量筛选能力用于反应机理的研究，两级质谱的过滤和扫描功能，可以有效进行低含量氯元素的分析，同时也能清楚的了解干扰物的来源，并且消除干扰的整个过程。
Katsuo Mizobuchi也同时简要概述了半导体行业常见化学品的分析难点，以及ICP-MS/MS针对这些难点所展现的具体分析性能。
来自安捷伦日本的半导体无机杂质分析专家Yoshinori Shimamura表示，随着半导体制程线宽越来越窄，除了半导体原材料中可溶性污染物外，半导体制造商面临着更新的污染控制课题。一颗几百纳米，甚至几十纳米级别的不溶性颗粒，都有可能造成产品的“缺陷”，从而造成“次品”。而半导体制程中有很多颗粒污染可能的来源，比如不锈钢瓶，过滤装置，试剂瓶等等。
安捷伦日本 半导体行业ICP-MS应用专家 Shimamura Yoshinori
针对先进半导体制程客户在控制纳米颗粒污染的需求，Yoshinori Shimamura在《单纳米颗粒ICP-MS 分析的最新趋势》的报告中，介绍了安捷伦与半导体客户开发了利用ICP-MS分析高纯试剂中单纳米颗粒的最近技术进展。包括领先的15 nm级别污染颗粒检测技术：即在较难分析的有机溶剂中稳定检测15 nm的氧化铁纳米颗粒的成功案例，及利用多元素同步分析手段，观察纳米颗粒过滤的效果，和对污染源协助鉴别的能力。
Wafer上“线”之间的颗粒污染造成的 “桥接缺陷（ bridging defect） ”
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《利用ICP-MSMS 对有机试剂中氯的分析技巧》
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责任编辑：Sophie
